品牌:蒂姆新材料
规格:1-3mm
纯度:99.95%
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锗颗粒-真空镀膜蒸发材料及坩埚 蒂姆锗颗粒锗，单质是一种灰白色类金属，有光泽，质硬，属于碳族，化学性质与同族的锡与硅相近，不溶于水、盐酸、稀苛性碱溶液，溶于王水、浓硝酸或硫酸，具有两性。
锗是优良半导体，可作高频率电流的检波和交流电的整流用，此外，可用于红外光材料、精密仪器、催化剂。锗的化合物可用以制造荧光板和各种折射率高的玻璃，
锗条 (5)_镀膜熔炼行业金属材料.
一、物理性质
化学符号：Ge
原 子 量：72.61
折 射 率（波长/nm）：4.4（2000nm）
熔 点：937℃
沸 点：2830℃
密 度：5.35g/cm3
蒸发方式：电子束，石墨舟
坩 埚： Al2O3,石英
透明范围/nm:1700-100000
外 观：银灰色晶体
在10-4Torr蒸发温度：1167℃
莫氏硬度：6.0-6.5
薄膜的机械和化学性质：由BE源得极好膜层
性 能：室温下，晶态锗性脆，可塑性很小；锗的化学性质稳定
高纯锗的优点：具有高的折射指数、低吸收、低色散、容易加工、有良好的机械强度、不吸潮等
应 用：红外膜
用 途：广泛应用于红外光学器件、电子工业、光导纤维、医学、冶金、能源和太阳能电池
二、主要产品Ge 颗粒5N.jpg
1、锗 颗粒 99.9999%（点击查看详情）
常规尺寸：99.999% 2-5mm圆柱形颗粒；
99.999%-99.9999% 1-6mm不规则颗粒；尺寸可定做
用途：热蒸镀、电子束蒸镀、熔炼等
2、锗 靶材 99.999%（点击查看详情）
常规尺寸：50*3mm；75*4mm；101.6*5mm；尺寸可定做
用途：磁控溅射镀膜
3. 锗 条 99.999%（点击查看详情）
常规尺寸：1kg/根 长度19.9cm 高度3.3cm 上宽2.9cm 下宽3.4cm
用途：熔炼合金等
锗颗粒-真空镀膜蒸发材料及坩埚 蒂姆锗颗粒| 分类 | 化学式 | 纯度（%） | 常规参数 |
| 常规金属靶材 | Cr | 3N5 | 靶材常规参数： 靶材纯度：99.7%、99.9%、99.95%、99.99%、99.999%、99.9999% 制备工艺：热等静压、真空熔炼等 靶材形态：平面靶、多弧靶、台阶靶、异形靶 圆靶尺寸：φ25.4*3mm、φ50*3mm、φ50.8*4mm、φ60*3mm、φ76.2*3mm、φ80*4mm、φ101.6*5mm、φ152.4*6mm 尺寸可定制 方靶尺寸：50*50*3mm、100*100*4mm、300*300*5mm 尺寸可定制 适用设备：磁控溅射设备、离子溅射仪、扫描电镜等 包装方式：真空包装 |
| C | 4N | ||
| Al | 3N,4N,5N,6N | ||
| Sn | 4N,5N,6N | ||
| Ti、Zn | 3N,4N,5N | ||
| Cu | 3N5,4N5,5N,6N | ||
| 贵金属靶材 | Pt | 3N5,4N | |
| Ag、Au | 4N,5N | ||
| Ir、Pd、Re、Rh、Ru | 3N5 | ||
| 磁性靶材 | Mn | 2N7 | |
| Ni | 3N,4N,5N | ||
| Co、Fe | 3N5 | ||
| 高熔点靶材 | V | 3N | |
| B | 2N,3N | ||
| Hf | 2N5,3N5 | ||
| Zr | 2N5,3N5 | ||
| Mo、Nb、Ta、W | 3N5 | ||
| 活泼金属靶材 | Li | 3N | |
| Mg | 3N5 | ||
| 小金属靶材 | Bi | 4N | |
| In | 4N5 | ||
| Cd | 5N | ||
| Sb、Se | 4N,5N | ||
| Ge、Si | 5N,6N | ||
| Pb、Te | 4N,5N,6N | ||
| 稀土靶材 | Sc | 4N | |
| La、Ce、Pr、Nd、Ho | 3N | ||
| Sm、Eu、Gd、Tb、Dy | 3N | ||
| Er、Yb、Y、Lu | 3N |